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双轴平面自动抛光机的抛光位置和速率效果
2015-05-20 10:57:46 来源:双轴平面自动抛光机的抛光位置和速率效果
双轴平面自动抛光机的关键是要设法得到*大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用*细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。
电机电源起动后,通过调节抛光头位置,使抛光辅料与要抛光的物件全面接触。抛光过程中加入的抛光液/抛光蜡,可以得到更好的光洁度。可通过固定在工作台上安装水槽、水循环系统等等,达到湿抛的效果。
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